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    Titel:

    Low temperature growth of beta-FeSi~2 films on Si(111) by RF magnetron sputtering using a FeSi~2 alloy target

    Beteiligte:

    Yoshitake, T. (Autor:in) / Hanada, T. (Autor:in) / Nagayama, K. (Autor:in)

    Erschienen in:

    JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE LETTERS ; 19 ; 537-538

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2000

    Format / Umfang:

    2 pages

    ISSN:

    0261-8028

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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