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Proton trapping and diffusion in SiO2 thin films: a first-principles study

Zhang, Q. / Tang, S. / Wallace, R. M.

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Titel:

Proton trapping and diffusion in SiO2 thin films: a first-principles study

Beteiligte:

Zhang, Q. (Autor:in) / Tang, S. (Autor:in) / Wallace, R. M. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 172 ; 41-46

Erscheinungsdatum:

01.01.2001

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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