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High NOx sensitivity of oxide thin films prepared by RF sputtering

Tanaka, S. / Esaka, T.

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Titel:

High NOx sensitivity of oxide thin films prepared by RF sputtering

Beteiligte:

Tanaka, S. (Autor:in) / Esaka, T. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS RESEARCH BULLETIN ; 35 ; 2491-2502

Erscheinungsdatum:

01.01.2000

Format / Umfang:

12 pages

ISSN:

0025-5408

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11 / 620

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