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    Titel:

    Processing, microstructure and properties of chemical vapor deposited TiN/AlN films

    Beteiligte:

    Yoshikawa, N. (Autor:in) / Aoki, M. (Autor:in) / Kikuchi, A. (Autor:in) / Taniguchi, S. (Autor:in)

    Erschienen in:

    INTERNATIONAL JOURNAL OF MATERIALS AND PRODUCT TECHNOLOGY ; 16 ; 109-116

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2001

    Format / Umfang:

    8 pages

    ISSN:

    0268-1900

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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