Wet and dry etching of Sc2O3: Fid-Bau Portal

Wet and dry etching of Sc2O3

Park, P. Y. / Norasetthekul, S. / Lee, K. P. / Baik, K. H. / Gila, B. P. / Shin, J. H. / Abernathy, C. R. / Ren, F. / Lambers, E. S. / Pearton, S. J.

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Titel:

Wet and dry etching of Sc2O3

Beteiligte:

Park, P. Y. (Autor:in) / Norasetthekul, S. (Autor:in) / Lee, K. P. (Autor:in) / Baik, K. H. (Autor:in) / Gila, B. P. (Autor:in) / Shin, J. H. (Autor:in) / Abernathy, C. R. (Autor:in) / Ren, F. (Autor:in) / Lambers, E. S. (Autor:in) / Pearton, S. J. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 185 ; 52-59

Erscheinungsdatum:

01.01.2001

Format / Umfang:

8 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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