Preparation and Properties of SiO~2 Thin Films Derived from Polysilanes Treated with Oxygen Plasma: Fid-Bau Portal

Preparation and Properties of SiO~2 Thin Films Derived from Polysilanes Treated with Oxygen Plasma

Peng, Z. J. / Si, W. J. / Xie, M. N. / Fu, H. J. / Lin, S. W. / Miao, H. Z.

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Titel:

Preparation and Properties of SiO~2 Thin Films Derived from Polysilanes Treated with Oxygen Plasma

Beteiligte:

Peng, Z. J. (Autor:in) / Si, W. J. (Autor:in) / Xie, M. N. (Autor:in) / Fu, H. J. (Autor:in) / Lin, S. W. (Autor:in) / Miao, H. Z. (Autor:in) / Gong, J. / Pan, W.

Erschienen in:

High-Performance Ceramics 2001 ; 219-224

KEY ENGINEERING MATERIALS

Erscheinungsdatum:

01.01.2002

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

1013-9826

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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