Effects of postdeposition in situ heat treatment on the properties of low dielectric constant plasma polymer films deposited using decahydronaphthalene and tetraethyl orthosilicate as the precursors: Fid-Bau Portal

Effects of postdeposition in situ heat treatment on the properties of low dielectric constant plasma polymer films deposited using decahydronaphthalene and tetraethyl orthosilicate as the precursors

Yang, J. / Shim, C. / Jung, D.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Effects of postdeposition in situ heat treatment on the properties of low dielectric constant plasma polymer films deposited using decahydronaphthalene and tetraethyl orthosilicate as the precursors

Yang, J. / Shim, C. / Jung, D.

Effects of postdeposition in situ heat treatment on the properties of low dielectric constant plasma polymer films deposited using decahydronaphthalene and tetraethyl orthosilicate as the precursors

Yang, J. / Shim, C. / Jung, D.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Dokumentinformationen

Titel:

Effects of postdeposition in situ heat treatment on the properties of low dielectric constant plasma polymer films deposited using decahydronaphthalene and tetraethyl orthosilicate as the precursors

Beteiligte:

Yang, J. (Autor:in) / Shim, C. (Autor:in) / Jung, D. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH -PITTSBURGH- ; 17 ; 1371-1375

Erscheinungsdatum:

01.01.2002

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0884-2914

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)