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    Titel:

    Microstructure of indium tin oxide films deposited on porous silicon by rf-sputtering

    Beteiligte:

    Ghosh, S. (Autor:in) / Kim, H. (Autor:in) / Hong, K. (Autor:in) / Lee, C. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B -LAUSANNE- ; 95 ; 171 - 179

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2002

    Format / Umfang:

    9 pages

    ISSN:

    0921-5107

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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