Ferroelectric thin and thick films for microsystems: Fid-Bau Portal

Ferroelectric thin and thick films for microsystems

Whatmore, R. W. / Zhang, Q. / Huang, Z. / Dorey, R. A.

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Titel:

Ferroelectric thin and thick films for microsystems

Beteiligte:

Whatmore, R. W. (Autor:in) / Zhang, Q. (Autor:in) / Huang, Z. (Autor:in) / Dorey, R. A. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 5 ; 65-76

Erscheinungsdatum:

01.01.2002

Format / Umfang:

12 pages

ISSN:

1369-8001

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.38152

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