Fabrication and characterization of metal and semiconductor SmS thin films by rf/dc dual magnetron sputtering: Fid-Bau Portal

Fabrication and characterization of metal and semiconductor SmS thin films by rf/dc dual magnetron sputtering

Tanemura, S. / Koide, S. / Senzaki, Y. / Miao, L. / Hirai, H. / Mori, Y. / Jin, P. / Kaneko, K. / Terai, A. / Nabatova-Gabain, N.

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Titel:

Fabrication and characterization of metal and semiconductor SmS thin films by rf/dc dual magnetron sputtering

Beteiligte:

Tanemura, S. (Autor:in) / Koide, S. (Autor:in) / Senzaki, Y. (Autor:in) / Miao, L. (Autor:in) / Hirai, H. (Autor:in) / Mori, Y. (Autor:in) / Jin, P. (Autor:in) / Kaneko, K. (Autor:in) / Terai, A. (Autor:in) / Nabatova-Gabain, N. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 212-213 ; 279-286

Erscheinungsdatum:

01.01.2003

Format / Umfang:

8 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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