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    Titel:

    Oxygen radical treatment applied to ferroelectric thin films

    Beteiligte:

    Takahashi, I. (Autor:in) / Sakurai, H. (Autor:in) / Yamada, A. (Autor:in) / Funaiwa, K. (Autor:in) / Hirai, K. (Autor:in) / Urabe, S. (Autor:in) / Goto, T. (Autor:in) / Hirayama, M. (Autor:in) / Teramoto, A. (Autor:in) / Sugawa, S. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 216 ; 239-245

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2003

    Format / Umfang:

    7 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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