Suppression of interfacial diffusion by a predeposited Hf metal layer on SiO2/Si: Fid-Bau Portal

Suppression of interfacial diffusion by a predeposited Hf metal layer on SiO2/Si

Tan, R. / Azuma, Y. / Kojima, I.

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Titel:

Suppression of interfacial diffusion by a predeposited Hf metal layer on SiO2/Si

Beteiligte:

Tan, R. (Autor:in) / Azuma, Y. (Autor:in) / Kojima, I. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 222 ; 346-350

Erscheinungsdatum:

01.01.2004

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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