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    Titel:

    Ion and chemical etching of single-crystal silicon by a combined discharge plasma

    Beteiligte:

    Bordusov, S. V. (Autor:in)

    Erschienen in:

    SURFACE ENGINEERING AND APPLIED ELECTROCHEMISTRY C/C OF ELEKTRONNAIA OBRABOTKA MATERIALOV ; 37-40

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2002

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    1068-3755

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.44 / 660.297

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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