Comment to "Copper chemical vapour deposition on organosilane-treated SiO2 surfaces": Fid-Bau Portal

Comment to "Copper chemical vapour deposition on organosilane-treated SiO2 surfaces"

Semaltianos, N. G. / Pastol, J. L. / Doppelt, P.

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Titel:

Comment to "Copper chemical vapour deposition on organosilane-treated SiO2 surfaces"

Beteiligte:

Semaltianos, N. G. (Autor:in) / Pastol, J. L. (Autor:in) / Doppelt, P. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 229 ; 1

Erscheinungsdatum:

01.01.2004

Format / Umfang:

1 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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