Atomic layer chemical vapour deposition of copper: Fid-Bau Portal

Atomic layer chemical vapour deposition of copper

Mane, A. U. / Shivashankar, S. A.

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Titel:

Atomic layer chemical vapour deposition of copper

Beteiligte:

Mane, A. U. (Autor:in) / Shivashankar, S. A. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 7 ; 343-347

Erscheinungsdatum:

01.01.2004

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

1369-8001

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.38152

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