Influence of surface orientation on the formation of sputtering-induced ripple topography in silicon: Fid-Bau Portal

Influence of surface orientation on the formation of sputtering-induced ripple topography in silicon

Fares, B. / Gautier, B. / Baboux, N. / Prudon, G. / Holliger, P. / Dupuy, J. C.

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Titel:

Influence of surface orientation on the formation of sputtering-induced ripple topography in silicon

Beteiligte:

Fares, B. (Autor:in) / Gautier, B. (Autor:in) / Baboux, N. (Autor:in) / Prudon, G. (Autor:in) / Holliger, P. (Autor:in) / Dupuy, J. C. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 231/232 ; 678-683

Erscheinungsdatum:

01.01.2004

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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