Characterization of sputtering deposited NiTi shape memory thin films using a temperature controllable atomic force microscope: Fid-Bau Portal

Characterization of sputtering deposited NiTi shape memory thin films using a temperature controllable atomic force microscope

He, Q. / Huang, W. M. / Hong, M. H. / Wu, M. J. / Fu, Y. Q. / Chong, T. C. / Chellet, F. / Du, H. J.

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Titel:

Characterization of sputtering deposited NiTi shape memory thin films using a temperature controllable atomic force microscope

Beteiligte:

He, Q. (Autor:in) / Huang, W. M. (Autor:in) / Hong, M. H. (Autor:in) / Wu, M. J. (Autor:in) / Fu, Y. Q. (Autor:in) / Chong, T. C. (Autor:in) / Chellet, F. (Autor:in) / Du, H. J. (Autor:in)

Erschienen in:

SMART MATERIALS AND STRUCTURES ; 13 ; 977-982

Erscheinungsdatum:

01.01.2004

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0964-1726

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 530

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