Fachinformationsdienst BAUdigital

Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik

    Growth of ZnS films by chemical vapor deposition of Zn[S2CN(CH3)2]2 precursor

    Neue Suche nach: Lee, E. Y.
    Neue Suche nach: Tran, N. H.
    Neue Suche nach: Lamb, R. N.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Growth of ZnS films by chemical vapor deposition of Zn[S2CN(CH3)2]2 precursor

    Neue Suche nach: Lee, E. Y.
    Neue Suche nach: Tran, N. H.
    Neue Suche nach: Lamb, R. N.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Growth of ZnS films by chemical vapor deposition of Zn[S2CN(CH3)2]2 precursor

    Neue Suche nach: Lee, E. Y.
    Neue Suche nach: Tran, N. H.
    Neue Suche nach: Lamb, R. N.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Dokumentinformationen
    Titel:

    Growth of ZnS films by chemical vapor deposition of Zn[S2CN(CH3)2]2 precursor

    Beteiligte:

    Lee, E. Y. (Autor:in) / Tran, N. H. (Autor:in) / Lamb, R. N. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 241 ; 493-496

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2005

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

    Ähnliche Titel

    Mineral precursor for chemical vapor deposition of Rh metallic films

    Doppelt, P. / Weigel, V. / Guinot, P. | British Library Online Contents | 1993

    Direct chemical vapor deposition growth of tunable HfSiON films by a new precursor combination

    Xia, B. / Fisher, M. L. / Stemper, H. et al. | British Library Online Contents | 2007

    A novel Cu(II) chemical vapor deposition precursor: Synthesis, characterization, and chemical vapor deposition

    Devi, A. / Goswami, J. / Lakshmi, R. et al. | British Library Online Contents | 1998

    Growth of ZnO Thin Films by Metalorganic Chemical Vapor Deposition Using Isopropyl Alcohol for Oxygen Precursor

    Park, J. Y. / Hong, Y. S. / Kim, S. S. | British Library Online Contents | 2006

    IN-SITU SOLID CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PRECURSOR DELIVERY

    NABLE JUN / SHE YING / SUDRE OLIVIER H | Europäisches Patentamt | 2024

    Freier Zugriff
    Nach oben