Direct chemical vapor deposition growth of tunable HfSiON films by a new precursor combination: Fid-Bau Portal

Direct chemical vapor deposition growth of tunable HfSiON films by a new precursor combination

Xia, B. / Fisher, M. L. / Stemper, H. / Misra, A.

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Titel:

Direct chemical vapor deposition growth of tunable HfSiON films by a new precursor combination

Beteiligte:

Xia, B. (Autor:in) / Fisher, M. L. (Autor:in) / Stemper, H. (Autor:in) / Misra, A. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH -PITTSBURGH THEN WARRENDALE- ; 22 ; 1024-1028

Erscheinungsdatum:

01.01.2007

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0884-2914

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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