HfAlON films fabricated by pulsed laser ablation for high-k gate dielectric applications: Fid-Bau Portal

HfAlON films fabricated by pulsed laser ablation for high-k gate dielectric applications

Zhu, J. / Liu, Z. G. / Li, Y. R.

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Titel:

HfAlON films fabricated by pulsed laser ablation for high-k gate dielectric applications

Beteiligte:

Zhu, J. (Autor:in) / Liu, Z. G. (Autor:in) / Li, Y. R. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS LETTERS ; 59 ; 821-825

Erscheinungsdatum:

01.01.2005

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0167-577X

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.1105 / 530

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