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Nanoindentation analysis of mechanical properties of low to ultralow dielectric constant SiCOH films
Nanoindentation analysis of mechanical properties of low to ultralow dielectric constant SiCOH films
Nanoindentation analysis of mechanical properties of low to ultralow dielectric constant SiCOH films
Wang, L. (Autor:in) / Ganor, M. (Autor:in) / Rokhlin, S. I. (Autor:in) / Grill, A. (Autor:in)
JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH -PITTSBURGH THEN WARRENDALE- ; 20 ; 2080-2093
01.01.2005
14 pages
Aufsatz (Zeitschrift)
Englisch
DDC:
620.11
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