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Influence of titanium oxide films on copper nucleation during electrodeposition

Chang, H. K. / Choe, B. H. / Lee, J. K.

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Titel:

Influence of titanium oxide films on copper nucleation during electrodeposition

Beteiligte:

Chang, H. K. (Autor:in) / Choe, B. H. (Autor:in) / Lee, J. K. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING A ; 409 ; 317-328

Erscheinungsdatum:

01.01.2005

Format / Umfang:

12 pages

ISSN:

0921-5093

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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