Kinetics of amorphous silicon dissolution into aluminum layers: Fid-Bau Portal

Kinetics of amorphous silicon dissolution into aluminum layers

Shetty, P. K. / Theodore, N. D. / Mayer, J. W. / Alford, T. L.

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Titel:

Kinetics of amorphous silicon dissolution into aluminum layers

Beteiligte:

Shetty, P. K. (Autor:in) / Theodore, N. D. (Autor:in) / Mayer, J. W. (Autor:in) / Alford, T. L. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS LETTERS ; 60 ; 490-493

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0167-577X

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.1105 / 530

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