Low Pressure RF Plasma Jet Sputtering Technique Applied to Ferroelectric Films: Ba~1~-~x Sr~xTiO~3: Fid-Bau Portal

Low Pressure RF Plasma Jet Sputtering Technique Applied to Ferroelectric Films: Ba~1~-~x Sr~xTiO~3

Deyneka, A. / Hubicka, Z. / Trepakov, V. A. / Suchaneck, G. / Jastrabik, L. / Gerlach, G. / Pokorny, J. / Chvostova, D. / Olejnicek, J.

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Titel:

Low Pressure RF Plasma Jet Sputtering Technique Applied to Ferroelectric Films: Ba~1~-~x Sr~xTiO~3

Beteiligte:

Deyneka, A. (Autor:in) / Hubicka, Z. (Autor:in) / Trepakov, V. A. (Autor:in) / Suchaneck, G. (Autor:in) / Jastrabik, L. (Autor:in) / Gerlach, G. (Autor:in) / Pokorny, J. (Autor:in) / Chvostova, D. (Autor:in) / Olejnicek, J. (Autor:in) / Vilarinho, P. M.

Erschienen in:

Advanced Materials Forum III PART 1: Proceedings of the III International Materials Symposium Materiais 2005 and XII Encontro da Sociedade Portuguesa de Materiais - SPM Universidade de Aveiro, March 20-23, Aveiro, Portugal, 2005 ; 165-169

MATERIALS SCIENCE FORUM ; 514/516

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0255-5476

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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