X-ray photoelectron spectroscopy characterization of oxidated Si particles formed by pulsed ion-beam ablation: Fid-Bau Portal

X-ray photoelectron spectroscopy characterization of oxidated Si particles formed by pulsed ion-beam ablation

Zhu, X. P. / Yukawa, T. / Hirai, M. / Suematsu, H. / Jiang, W. / Yatsui, K. / Nishiyama, H. / Inoue, Y.

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Titel:

X-ray photoelectron spectroscopy characterization of oxidated Si particles formed by pulsed ion-beam ablation

Beteiligte:

Zhu, X. P. (Autor:in) / Yukawa, T. (Autor:in) / Hirai, M. (Autor:in) / Suematsu, H. (Autor:in) / Jiang, W. (Autor:in) / Yatsui, K. (Autor:in) / Nishiyama, H. (Autor:in) / Inoue, Y. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 252 ; 5776-5782

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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