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    Titel:

    Epitaxial growth of copper silicides by "bilayer" technique on monocrystalline silicon with and without native SiOx

    Beteiligte:

    Benouattas, N. (Autor:in) / Osmani, L. (Autor:in) / Salik, L. (Autor:in) / Benazzouz, C. (Autor:in) / Benkerri, M. (Autor:in) / Bouabellou, A. (Autor:in) / Halimi, R. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B -LAUSANNE- ; 132 ; 283-287

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2006

    Format / Umfang:

    5 pages

    ISSN:

    0921-5107

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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