Photostructural modifications in poly(methylphenylsilylene) thin films: Excitation wavelength and atmosphere dependence: Fid-Bau Portal

Photostructural modifications in poly(methylphenylsilylene) thin films: Excitation wavelength and atmosphere dependence

Potter, B. G. / Chandra, H. / Simmons-Potter, K. / Jamison, G. M. / Thomes, W. J.

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Titel:

Photostructural modifications in poly(methylphenylsilylene) thin films: Excitation wavelength and atmosphere dependence

Beteiligte:

Potter, B. G. (Autor:in) / Chandra, H. (Autor:in) / Simmons-Potter, K. (Autor:in) / Jamison, G. M. (Autor:in) / Thomes, W. J. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH -PITTSBURGH THEN WARRENDALE- ; 21 ; 2393-2400

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

8 pages

ISSN:

0884-2914

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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