Fachinformationsdienst BAUdigital

Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik

    Internal friction characteristics of Ti51.5Ni26.0Pd22.5 thin films formed by sputter deposition

    Neue Suche nach: Qian, S.
    Neue Suche nach: Wu, J.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Internal friction characteristics of Ti51.5Ni26.0Pd22.5 thin films formed by sputter deposition

    Neue Suche nach: Qian, S.
    Neue Suche nach: Wu, J.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Internal friction characteristics of Ti51.5Ni26.0Pd22.5 thin films formed by sputter deposition

    Neue Suche nach: Qian, S.
    Neue Suche nach: Wu, J.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Dokumentinformationen
    Titel:

    Internal friction characteristics of Ti51.5Ni26.0Pd22.5 thin films formed by sputter deposition

    Beteiligte:

    Qian, S. (Autor:in) / Wu, J. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS LETTERS ; 61 ; 292-295

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2007

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0167-577X

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.1105 / 530

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

    Ähnliche Titel

    Electrical characteristics of V2O5 thin films formed on p-Si by sputter-deposition and rapid thermal annealing

    Yoon, M. H. / Im, S. | British Library Online Contents | 2005

    Amorphous molybdenum nitride thin films prepared by reactive sputter deposition

    Wang, Y. / Lin, R. Y. | British Library Online Contents | 2004

    Sputter deposition of calcium phosphate/titanium dioxide hybrid thin films

    Boyd, A. R. / Duffy, H. / McCann, R. et al. | British Library Online Contents | 2008

    Reactive sputter deposition and characterization of tantalum nitride thin films

    Radhakrishnan, K. / Geok Ing, N. / Gopalakrishnan, R. | British Library Online Contents | 1999

    Characteristics of tin whiskers formed on sputter-deposited films-an aging study

    Winterstein, J. P. / LeBret, J. B. / Norton, M. G. | British Library Online Contents | 2004

    Nach oben