Use of successive ionic layer adsorption and reaction (SILAR) method for amorphous titanium dioxide thin films growth: Fid-Bau Portal

Use of successive ionic layer adsorption and reaction (SILAR) method for amorphous titanium dioxide thin films growth

Kale, S. S. / Mane, R. S. / Chung, H. / Yoon, M. Y. / Lokhande, C. D. / Han, S. H.

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Titel:

Use of successive ionic layer adsorption and reaction (SILAR) method for amorphous titanium dioxide thin films growth

Beteiligte:

Kale, S. S. (Autor:in) / Mane, R. S. (Autor:in) / Chung, H. (Autor:in) / Yoon, M. Y. (Autor:in) / Lokhande, C. D. (Autor:in) / Han, S. H. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 253 ; 421-424

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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