Composition of Ta2O5 stacked films on N2O- and NH3-nitrided Si: Fid-Bau Portal

Composition of Ta2O5 stacked films on N2O- and NH3-nitrided Si

Atanassova, E. / Spassov, D. / Paskaleva, A. / Kostov, K.

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Titel:

Composition of Ta2O5 stacked films on N2O- and NH3-nitrided Si

Beteiligte:

Atanassova, E. (Autor:in) / Spassov, D. (Autor:in) / Paskaleva, A. (Autor:in) / Kostov, K. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 253 ; 2841-2851

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

11 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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