Combining Conventional Lithography with Molecular Self-Assembly for Chemical Patterning: Fid-Bau Portal

Combining Conventional Lithography with Molecular Self-Assembly for Chemical Patterning

Anderson, M. E. / Srinivasan, C. / Hohman, J. N. / Carter, E. M. / Horn, M. W. / Weiss, P. S.

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Titel:

Combining Conventional Lithography with Molecular Self-Assembly for Chemical Patterning

Beteiligte:

Anderson, M. E. (Autor:in) / Srinivasan, C. (Autor:in) / Hohman, J. N. (Autor:in) / Carter, E. M. (Autor:in) / Horn, M. W. (Autor:in) / Weiss, P. S. (Autor:in)

Erschienen in:

ADVANCED MATERIALS -DEERFIELD BEACH THEN WEINHEIM- ; 18 ; 3258-3260

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

3 pages

ISSN:

0935-9648

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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