Etching characteristics of high-purity aluminum in hydrochloric acid solutions: Fid-Bau Portal

Etching characteristics of high-purity aluminum in hydrochloric acid solutions

Oh, H. J. / Lee, J. H. / Ahn, H. J. / Jeong, Y. / Park, N. J. / Kim, S. S. / Chi, C. S.

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Titel:

Etching characteristics of high-purity aluminum in hydrochloric acid solutions

Beteiligte:

Oh, H. J. (Autor:in) / Lee, J. H. (Autor:in) / Ahn, H. J. (Autor:in) / Jeong, Y. (Autor:in) / Park, N. J. (Autor:in) / Kim, S. S. (Autor:in) / Chi, C. S. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING A ; 449/451 ; 348-351

Erscheinungsdatum:

01.01.2007

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0921-5093

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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