FexNi100-x nanometric films deposited by laser ablation on SiO2/Si substrates: Fid-Bau Portal

FexNi100-x nanometric films deposited by laser ablation on SiO2/Si substrates

Berling, D. / Caricato, A. P. / Denys, E. / Fernandez, M. / Leggieri, G. / Luby, S. / Luches, A. / Martino, M. / Mengucci, P.

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Titel:

FexNi100-x nanometric films deposited by laser ablation on SiO2/Si substrates

Beteiligte:

Berling, D. (Autor:in) / Caricato, A. P. (Autor:in) / Denys, E. (Autor:in) / Fernandez, M. (Autor:in) / Leggieri, G. (Autor:in) / Luby, S. (Autor:in) / Luches, A. (Autor:in) / Martino, M. (Autor:in) / Mengucci, P. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 253 ; 6522-6526

Erscheinungsdatum:

01.01.2007

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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