Mechanical Behavior Simulation of PMMA for Nano Imprint Lithography Using Molecular Dynamics: Fid-Bau Portal

Mechanical Behavior Simulation of PMMA for Nano Imprint Lithography Using Molecular Dynamics

Kim, J. Y. / Kim, J. H. / Choi, B. I.

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Titel:

Mechanical Behavior Simulation of PMMA for Nano Imprint Lithography Using Molecular Dynamics

Beteiligte:

Kim, J. Y. (Autor:in) / Kim, J. H. (Autor:in) / Choi, B. I. (Autor:in) / Nam, S. W. / Chang, Y. W. / Lee, S. B. / Kim, N. J.

Erschienen in:

The Mechanical Behavior of Materials X ; 979-982

KEY ENGINEERING MATERIALS ; 345/346

Erscheinungsdatum:

01.01.2007

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

1013-9826

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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