An investigation of natural oxidation process on stain-etched nanoporous silicon by micro-Raman spectroscopy: Fid-Bau Portal

An investigation of natural oxidation process on stain-etched nanoporous silicon by micro-Raman spectroscopy

Abramof, P. G. / Miranda, C. R. / Beloto, A. F. / Ueta, A. Y. / Ferreira, N. G.

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Titel:

An investigation of natural oxidation process on stain-etched nanoporous silicon by micro-Raman spectroscopy

Beteiligte:

Abramof, P. G. (Autor:in) / Miranda, C. R. (Autor:in) / Beloto, A. F. (Autor:in) / Ueta, A. Y. (Autor:in) / Ferreira, N. G. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 253 ; 7065-7068

Erscheinungsdatum:

01.01.2007

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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