Polystyrene-Polymethylmethacrylate Block Copolymers for Lithographically Assisted Bottom-Up Assembly of Nanostructures: Fid-Bau Portal

Polystyrene-Polymethylmethacrylate Block Copolymers for Lithographically Assisted Bottom-Up Assembly of Nanostructures

Borsetto, F. / Kosmala, B. / Fitzgerald, T. G. / Shaw, M. T. / Patterson, J. / Rapposelli, P. / O Callaghan, J. M. / Holmes, J. D. / Morris, M. A.

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Titel:

Polystyrene-Polymethylmethacrylate Block Copolymers for Lithographically Assisted Bottom-Up Assembly of Nanostructures

Beteiligte:

Borsetto, F. (Autor:in) / Kosmala, B. (Autor:in) / Fitzgerald, T. G. (Autor:in) / Shaw, M. T. (Autor:in) / Patterson, J. (Autor:in) / Rapposelli, P. (Autor:in) / O Callaghan, J. M. (Autor:in) / Holmes, J. D. (Autor:in) / Morris, M. A. (Autor:in) / Uskokovic, D. P.

Erschienen in:

Research Trends in Contemporary Materials Science ; 29-34

MATERIALS SCIENCE FORUM ; 555

Erscheinungsdatum:

01.01.2007

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0255-5476

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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