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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Scaling of Chlorosilane SiC CVD to Multi-Wafer Epitaxy System

    Beteiligte:

    Wan, J. W. (Autor:in) / Loboda, M. J. (Autor:in) / MacMillan, M. F. (Autor:in) / Chung, G. Y. (Autor:in) / Carlson, E. P. (Autor:in) / Torres, V. M. (Autor:in) / Wright, N. / Johnson, C. M. / Vassilevski, K. / Nikitina, I.

    Erschienen in:

    Silicon Carbide and Related Materials 2006 ; 145-148

    MATERIALS SCIENCE FORUM ; 556/557

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2007

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0255-5476

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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