Effects of temperature and oxygen pressure on binary oxide growth using aperture-controlled combinatorial pulsed-laser deposition: Fid-Bau Portal

Effects of temperature and oxygen pressure on binary oxide growth using aperture-controlled combinatorial pulsed-laser deposition

Bassim, N. D. / Schenck, P. K. / Donev, E. U. / Heilweil, E. J. / Cockayne, E. / Green, M. L. / Feldman, L. C.

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Titel:

Effects of temperature and oxygen pressure on binary oxide growth using aperture-controlled combinatorial pulsed-laser deposition

Beteiligte:

Bassim, N. D. (Autor:in) / Schenck, P. K. (Autor:in) / Donev, E. U. (Autor:in) / Heilweil, E. J. (Autor:in) / Cockayne, E. (Autor:in) / Green, M. L. (Autor:in) / Feldman, L. C. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 254 ; 785-788

Erscheinungsdatum:

01.01.2007

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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