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Dumond, J. / Low, H. Y.

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Titel:

Residual Layer Self-Removal in Imprint Lithography

Beteiligte:

Dumond, J. (Autor:in) / Low, H. Y. (Autor:in)

Erschienen in:

ADVANCED MATERIALS -DEERFIELD BEACH THEN WEINHEIM- ; 20 ; 1291-1297

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0935-9648

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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