Surface characterization of TiO2 thin films obtained by high-energy reactive magnetron sputtering: Fid-Bau Portal

Surface characterization of TiO2 thin films obtained by high-energy reactive magnetron sputtering

Wasielewski, R. / Domaradzki, J. / Wojcieszak, D. / Kaczmarek, D. / Borkowska, A. / Prociow, E. L. / Ciszewski, A.

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Titel:

Surface characterization of TiO2 thin films obtained by high-energy reactive magnetron sputtering

Beteiligte:

Wasielewski, R. (Autor:in) / Domaradzki, J. (Autor:in) / Wojcieszak, D. (Autor:in) / Kaczmarek, D. (Autor:in) / Borkowska, A. (Autor:in) / Prociow, E. L. (Autor:in) / Ciszewski, A. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 254 ; 4396-4400

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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