Nanopatterned Self-Assembled Monolayers by Using Diblock Copolymer Micelles as Nanometer-Scale Adsorption and Etch Masks: Fid-Bau Portal

Nanopatterned Self-Assembled Monolayers by Using Diblock Copolymer Micelles as Nanometer-Scale Adsorption and Etch Masks

Krishnamoorthy, S. / Pugin, R. / Brugger, J. / Heinzelmann, H. / Hinderling, C.

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Titel:

Nanopatterned Self-Assembled Monolayers by Using Diblock Copolymer Micelles as Nanometer-Scale Adsorption and Etch Masks

Beteiligte:

Krishnamoorthy, S. (Autor:in) / Pugin, R. (Autor:in) / Brugger, J. (Autor:in) / Heinzelmann, H. (Autor:in) / Hinderling, C. (Autor:in)

Erschienen in:

ADVANCED MATERIALS -DEERFIELD BEACH THEN WEINHEIM- ; 20 ; 1962-1965

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0935-9648

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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