Dense Self-Assembly on Sparse Chemical Patterns: Rectifying and Multiplying Lithographic Patterns Using Block Copolymers: Fid-Bau Portal

Dense Self-Assembly on Sparse Chemical Patterns: Rectifying and Multiplying Lithographic Patterns Using Block Copolymers

Cheng, J. Y. / Rettner, C. T. / Sanders, D. P. / Kim, H. C. / Hinsberg, W. D.

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Titel:

Dense Self-Assembly on Sparse Chemical Patterns: Rectifying and Multiplying Lithographic Patterns Using Block Copolymers

Beteiligte:

Cheng, J. Y. (Autor:in) / Rettner, C. T. (Autor:in) / Sanders, D. P. (Autor:in) / Kim, H. C. (Autor:in) / Hinsberg, W. D. (Autor:in)

Erschienen in:

ADVANCED MATERIALS -DEERFIELD BEACH THEN WEINHEIM- ; 20 ; 3155-3158

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0935-9648

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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