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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Photoresist-Free Lithographic Patterning of Solution-Processed Nanostructured Metal Thin Films

    Beteiligte:

    Shin, H. (Autor:in) / Kim, H. (Autor:in) / Lee, H. (Autor:in) / Yoo, H. (Autor:in) / Kim, J. (Autor:in) / Lee, M. (Autor:in)

    Erschienen in:

    ADVANCED MATERIALS -DEERFIELD BEACH THEN WEINHEIM- ; 20 ; 3457-3461

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2008

    Format / Umfang:

    5 pages

    ISSN:

    0935-9648

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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