Formation and escaping of positronium in porous SiO2 films at low temperature: Fid-Bau Portal

Formation and escaping of positronium in porous SiO2 films at low temperature

Mariazzi, S. / Toniutti, L. / Patel, N. / Brusa, R. S.

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Titel:

Formation and escaping of positronium in porous SiO2 films at low temperature

Beteiligte:

Mariazzi, S. (Autor:in) / Toniutti, L. (Autor:in) / Patel, N. (Autor:in) / Brusa, R. S. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 255 ; 191-193

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

3 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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