Static time-of-flight secondary ion mass spectrometry analysis of microelectronics related substrates using a polyatomic ion source: Fid-Bau Portal

Static time-of-flight secondary ion mass spectrometry analysis of microelectronics related substrates using a polyatomic ion source

Ravanel, X. / Trouiller, C. / Juhel, M. / Wyon, C. / Kwakman, L. F. / Leonard, D.

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Titel:

Static time-of-flight secondary ion mass spectrometry analysis of microelectronics related substrates using a polyatomic ion source

Beteiligte:

Ravanel, X. (Autor:in) / Trouiller, C. (Autor:in) / Juhel, M. (Autor:in) / Wyon, C. (Autor:in) / Kwakman, L. F. (Autor:in) / Leonard, D. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 255 ; 1440-1442

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

3 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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