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    Dokumentinformationen
    Titel:

    ToF-SIMS imaging of Cl at Cu grain boundaries in interconnects for microelectronics

    Beteiligte:

    Barnes, J. P. (Autor:in) / Carreau, V. (Autor:in) / Maitrejean, S. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 255 ; 1564-1568

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2008

    Format / Umfang:

    5 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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