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Growth temperature dependences of InN films grown by MOCVD

Yang, C. / Wang, X. / Xiao, H. / Zhang, X. / Hu, G. / Ran, J. / Wang, C. / Li, J. / Wang, Z.

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Titel:

Growth temperature dependences of InN films grown by MOCVD

Beteiligte:

Yang, C. (Autor:in) / Wang, X. (Autor:in) / Xiao, H. (Autor:in) / Zhang, X. (Autor:in) / Hu, G. (Autor:in) / Ran, J. (Autor:in) / Wang, C. (Autor:in) / Li, J. (Autor:in) / Wang, Z. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 255 ; 3149-3152

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Print

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

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