The photoemission study of NdNiO3/NdGaO3 thin films, through the metal-insulator transition: Fid-Bau Portal

The photoemission study of NdNiO3/NdGaO3 thin films, through the metal-insulator transition

Galicka, K. / Szade, J. / Ruello, P. / Laffez, P. / Ratuszna, A.

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Titel:

The photoemission study of NdNiO3/NdGaO3 thin films, through the metal-insulator transition

Beteiligte:

Galicka, K. (Autor:in) / Szade, J. (Autor:in) / Ruello, P. (Autor:in) / Laffez, P. (Autor:in) / Ratuszna, A. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 255 ; 4355-4361

Erscheinungsdatum:

01.01.2009

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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