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High refractive index TiO~2 film deposited by electron beam evaporation

Yao, J.K. / Huang, H.L. / Ma, J.Y. / Jin, Y.X. / Zhao, Y.A. / Shao, J.D. / He, H.B. / Yi, K. / Fan, Z.X. / Zhang, F.

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Titel:

High refractive index TiO~2 film deposited by electron beam evaporation

Beteiligte:

Yao, J.K. (Autor:in) / Huang, H.L. (Autor:in) / Ma, J.Y. (Autor:in) / Jin, Y.X. (Autor:in) / Zhao, Y.A. (Autor:in) / Shao, J.D. (Autor:in) / He, H.B. (Autor:in) / Yi, K. (Autor:in) / Fan, Z.X. (Autor:in) / Zhang, F. (Autor:in)

Erschienen in:

SURFACE ENGINEERING -LONDON- ; 25 ; 257-260

Erscheinungsdatum:

01.01.2009

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Print

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

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