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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Effect of Si target sputtering power on diffusion barrier properties of Ta-Si-N thin films

    Beteiligte:

    Zhou, J.C. (Autor:in) / Liu, Z. (Autor:in) / Li, Y.Z. (Autor:in) / Luo, D.T. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS SCIENCE AND TECHNOLOGY -LONDON- ; 25 ; 419-424

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2009

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    0267-0836

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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